氨逃逸是影響SCR系統(tǒng)運行的一項重要參數(shù)，實際生產(chǎn)過程中通常是多于理論量的氨到達(dá)反應(yīng)器，反應(yīng)后在煙氣下游多余的氨稱為氨逃逸，氨逃逸是通過單位體積內(nèi)氨含量來表示的。為了達(dá)到環(huán)保要求，往往需要一定過量的氨，所以也對應(yīng)著會有一個合適的氨逃逸值，該值設(shè)計為不大于5ppm，但是

往往實際運行中偏大，主要有以下因素：

 

（1）每只氨噴槍噴氨流量分布不均，煙氣中存在氨水局部分布不均，煙氣流速不均勻，各噴槍出口的噴氨量差異較大，濃度高的地方氨逃逸相對高一些。

 

（2）煙氣溫度，反應(yīng)溫度過低，NOx與氨的反應(yīng)速率降低，會造成NH?的大量逃逸，但是，反應(yīng)溫度過高，氨又會額外生成NO，所以，NH?存在最佳的反應(yīng)溫度，在SNCR氨的最佳反應(yīng)溫度800-1100℃；SCR反應(yīng)器是以活性成分為WO3和V2O5為催化劑蜂窩裝模塊，還原劑為來自上游SNCR系統(tǒng)的

 氨逃逸作為還原劑，在催化劑的作用下，氨水與NOx在315~380℃的溫度區(qū)間內(nèi)反應(yīng)，生成氮氣和水，達(dá)到脫硝的目的，如果溫度過高過低達(dá)不到反應(yīng)效果，勢必增加氨逃逸。

 

（3）催化劑堵塞，脫硝效率下降，為了保持環(huán)保參數(shù)不超標(biāo)，會噴更多的氨，這將引起惡性循環(huán)，催化劑局部堵塞、性能老化，導(dǎo)致催化劑各處催化效率不同，為了控制出口參數(shù)，只能增加噴氨量，從而導(dǎo)致局部氨逃逸升高。

 

（4）霧化風(fēng)量偏小，噴槍霧化不好，氨水與煙氣不能充分混合，將產(chǎn)生大量的氨逃逸。

 

（5）氨水濃度，氨水濃度配置，濃度高低無法受控，憑著感覺配置，就目前C鍋爐而言，基本上氨水濃度高，氨水調(diào)閥開度過小，霧化不好易自關(guān)，導(dǎo)致氨逃逸高，操作難度大。

 

（6）燃燒波動時，SNCR入口煙氣中的NOX濃度大幅波動，往往會加大噴氨量，機(jī)械地實現(xiàn)“達(dá)標(biāo)排放”，過量的氨水，可導(dǎo)致氨逃逸增加，直接危及爐后設(shè)備和系統(tǒng)安全運行。